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冠层分析仪的使用要注意这几个细节
发布时间： 2021-06-27 点击次数： 1223次冠层分析仪就是属于光学法的，特点是携带方便，不需要进行额外的资料处理，可以直接给出叶面积指数值，原理是在假定植物冠层内的各元素随机分布，依据冠层间隙度或光学特性反演叶面积指数。缺点是测量所得叶面积指数有着较大的偏差。叶片的聚集效应越强，偏差越大。因此在测量时，一般需要用直接法校正。测量时根据果园的大小。分别设置3-5个测量点，在每个测量点再分别用方框取样法和冠层分析法测量叶面积指数。方框取样法是将方框随机放在树冠上，将方框内的的叶片全部摘下，用叶面积仪测量框内的叶面积，然后根据树冠体积和栽植密度计算叶面积指数。测点的选择与冠层分析仪方法相同。冠层分析仪是分别对应测量天空5个范围的散射辐射，这5个范围的中心视天顶角分别为7°、23°、38°、53°和68°，分别与冠层上部和下部测量辐射通透密度，并根据转换模型估算叶面积指数。在每一个测点的冠层顶部测一次，下部重复测量6-10次，冠层下方的测量在同一水平面上，且在无直接辐射的条件下进行。为了避免光环境迅速的变化对测量结果的影响，选择无直接辐射的条件下进行，然后用冠层分析仪附带的软件对测量的资料进一步加工以校正估值叶面积指数。